臥式砂磨機(jī)的工作電流，運(yùn)行電流是檢驗(yàn)臥式砂磨機(jī)運(yùn)行狀況的主要指標(biāo)。主電機(jī)提供能量輸入，分散板充分?jǐn)噭?dòng)研磨介質(zhì)和漿液提供動(dòng)能，使?jié){液充分分散研磨，達(dá)到所需的研磨效果。在實(shí)際操作過(guò)程中，砂磨機(jī)的運(yùn)行電流與研磨介質(zhì)和研磨漿的質(zhì)量成正比。為保證砂磨機(jī)運(yùn)行電流的穩(wěn)定，需要確定合理的介質(zhì)填充率、給料量和料漿粘度。

　　介質(zhì)填充速率對(duì)磨砂機(jī)運(yùn)行電流的影響，臥式砂磨機(jī)的研磨介質(zhì)一般采用硅酸和氧化錯(cuò)珠。研磨介質(zhì)填充率是影響臥式砂光機(jī)運(yùn)行的重要因素之一。

　　當(dāng)磨礦介質(zhì)填充率由40%增加到75%時(shí)，運(yùn)行電流曲線呈上升趨勢(shì)，反映磨礦機(jī)內(nèi)磨礦介質(zhì)攪拌充分，能量需求發(fā)生較大變化。填充率為75%-85%，運(yùn)行電流曲線變化平穩(wěn)，反映出磨砂機(jī)內(nèi)介質(zhì)達(dá)到了一個(gè)平衡點(diǎn)，能量需求穩(wěn)定。充填率大于85%，運(yùn)行電流曲線變化呈下降趨勢(shì)，反映出磨砂機(jī)內(nèi)研磨介質(zhì)過(guò)量，研磨介質(zhì)與分散盤(pán)之間存在滑移現(xiàn)象，分散盤(pán)不能帶動(dòng)所有研磨介質(zhì)運(yùn)動(dòng)，能耗降低。因此，根據(jù)磨砂機(jī)電流變化曲線，研磨介質(zhì)的適宜填充率為80%。

　　臥式砂磨機(jī)是臥式濕式連續(xù)生產(chǎn)超細(xì)顆粒分散機(jī)。提前攪拌并將原料返回到主機(jī)的研磨槽內(nèi)，研磨槽內(nèi)填充大量的研磨介質(zhì)，如玻璃微珠通過(guò)分散葉片高速旋轉(zhuǎn)，給予研磨介質(zhì)足夠的動(dòng)量，并對(duì)分散的顆粒進(jìn)行沖擊剪切，達(dá)到分散的效果，通過(guò)專用的分離裝置，將分散的研磨介質(zhì)與分離出來(lái)。由于不像三輥機(jī)那樣需要高度的操作技能，可以得到均勻優(yōu)良的品質(zhì)，而且可以大量連續(xù)生產(chǎn)，所以可以提高質(zhì)量降低成本，也可以應(yīng)用于高粘度物質(zhì)的分散，所以可以應(yīng)用于涂料、油墨、醫(yī)藥、食品、化妝品、農(nóng)藥等行業(yè)。

　　為了達(dá)到平整的外觀，使分散在液體中的固體顆粒呈微顆粒狀。增加反射率，產(chǎn)生光澤度和提高覆蓋度，如在油漆、油墨、漿糊等中。增加反應(yīng)的速率和均勻性，增加液體中懸浮粒子的表面積。如在樹(shù)脂中加入粒狀硬化劑，或在化學(xué)反應(yīng)中加入粉狀顆粒原料。為了延長(zhǎng)沉淀時(shí)間，將小顆粒懸浮在液體中，達(dá)到暫時(shí)懸浮的目的，如水懸浮農(nóng)藥，可增加擴(kuò)散面積以延長(zhǎng)效果。